Revestimento PVD de película fina de alta pureza de destino de pulverización catódica de aliaxe ZrSi feito a medida

Revestimento PVD de película fina de alta pureza de destino de pulverización catódica de aleación de ZrSi feito a medida,
Obxectivo de pulverización de silicio con circonio,
O obxectivo de pulverización catódica de silicio de circonio faise mediante fusión ao baleiro e metalurxia eléctrica.

O circonio presente podería mellorar o comportamento de dureza e resistencia á corrosión.

O obxectivo de silicio de circonio é baixa en condutividade eléctrica e podería reducir o estrés residual, o que melloraría a estabilidade dos revestimentos e prolongaría a vida útil.Os revestimentos poderían usarse en vidro Low-E pola súa alta consistencia e comportamento de resistencia á corrosión.

En comparación co silicio puro, os obxectivos de pulverización catódica de silicio de circonio de alta pureza poderían mellorar significativamente a resistencia á fricción do revestimento depositado 4-6 veces.

Polo tanto, Zr-Si está dispoñible para moitas aplicacións prácticas.

Rich Special Materials é un fabricante de Sputtering Target e podería producir materiais de Sputtering de silicio con circonio segundo as especificacións dos clientes.Para obter máis información, póñase en contacto connosco.O obxectivo de pulverización de silicio con zirconio faise mediante a fusión ao baleiro e a metalurxia de enerxía.
O circonio presente podería mellorar o comportamento de dureza e resistencia á corrosión.
O obxectivo de silicio de circonio é baixa en condutividade eléctrica e podería reducir o estrés residual, o que melloraría a estabilidade dos revestimentos e prolongaría a vida útil.Os revestimentos poderían usarse en vidro Low-E pola súa alta consistencia e comportamento de resistencia á corrosión.
En comparación co silicio puro, os obxectivos de pulverización catódica de silicio de circonio de alta pureza poderían mellorar significativamente a resistencia á fricción do revestimento depositado 4-6 veces.
Aplicación de destino de pulverización ZrSi
O obxectivo de pulverización de ZrSi úsase en moitas aplicacións de baleiro, como revestimentos de vidro para automóbiles, fabricación de células fotovoltaicas, fabricación de baterías, pilas de combustible e revestimentos decorativos e resistentes á corrosión.O obxectivo de pulverización de ZrSi úsase para CD-ROM, decoración de deposición de película fina, pantallas de pantalla plana, revestimento funcional tan ben como outras industrias espaciales de almacenamento de información óptica, etc.
Embalaxe de destino de pulverización catódica ZrSi
O noso obxectivo de pulverización de ZrSi está claramente marcado e etiquetado externamente para garantir unha identificación eficiente e un control de calidade.Tómese moito coidado para evitar calquera dano que se poida causar durante o almacenamento ou o transporte.

Obter contacto
Os obxectivos de pulverización catódica de silicio con circonio de RSM son de ultra alta pureza e uniformes.Están dispoñibles en varias formas, purezas, tamaños e prezos.Somos especializados na produción de materiais de revestimento de película fina de alta pureza con excelente rendemento, así como a maior densidade posible e o menor tamaño de gran medio posible para o seu uso en revestimento de moldes, decoración, pezas de automóbiles, vidro de baixa emisividade, circuíto integrado de semiconductores, película fina. resistencia, visualización gráfica, aeroespacial, gravación magnética, pantalla táctil, batería solar de película fina e outras aplicacións de deposición física de vapor (PVD).Envíanos unha consulta sobre os prezos actuais dos obxectivos de pulverización catódica e outros materiais de deposición que non figuran na lista.