V Sputtering Target Revestimento Pvd de película fina de alta pureza feito a medida
Vanadio
Descrición do obxectivo de pulverización de vanadio
O vanadio é un metal duro e dúctil cunha aparencia gris prateada.É máis duro que a maioría dos metais e presenta unha boa resistencia á corrosión contra álcalis e ácidos.O seu punto de fusión é de 1890 ℃ e o punto de ebulición é de 3380 ℃.O seu número atómico é 23 e o seu peso atómico é 50,9414.Ten unha estrutura cúbica centrada nas caras e estados de oxidación nos seus compostos de +5, +4, +3 e +2.Ten un alto punto de fusión, ductilidade, dureza e resistencia á corrosión.
O vanadio úsase amplamente nunha serie de industrias e aplicacións, como motores a reacción, armazóns de aire de alta velocidade, reactores nucleares e aliaxes de aceiro.
O obxectivo de pulverización catódica de vanadio de alta pureza é un material crítico para as células solares e os revestimentos de lentes ópticas.
Análise Química
| Pureza | 99.7 | 99.9 | 99,95 | 99,99 |
| Fe | ≤0.1 | ≤0,05 | ≤0,02 | ≤0,01 |
| Al | ≤0,2 | ≤0,05 | ≤0,03 | ≤0,01 |
| Si | ≤0,15 | ≤0.1 | ≤0,05 | ≤0,01 |
| C | ≤0,03 | ≤0,02 | ≤0,01 | ≤0,01 |
| N | ≤0,01 | ≤0,01 | ≤0,01 | ≤0,01 |
| O | ≤0,05 | ≤0,05 | ≤0,05 | ≤0,03 |
| Impureza en total | ≤0,3 | ≤0.1 | ≤0,05 | ≤0,01 |
Embalaxe obxectivo de pulverización catódica de vanadio
O noso obxectivo de pulverización de vanadio está claramente marcado e etiquetado externamente para garantir unha identificación eficiente e un control de calidade.Tómese moito coidado para evitar calquera dano que se poida causar durante o almacenamento ou o transporte.
Obter contacto
Os obxectivos de pulverización de vanadio de RSM ofrecen unha pureza e consistencia excelentes.Están dispoñibles nunha variedade de formas, pureza, tamaños e prezos.Somos especializados en materiais de revestimento de película fina de alta pureza con excelentes propiedades, así como a maior densidade posible e o menor tamaño de gran medio posible, para revestimento de matrices, decoración, pezas de automóbiles, vidro de baixa E, circuítos integrados de semicondutores, resistencias de película fina, pantallas gráficas. , aeroespacial, gravación magnética, pantallas táctiles, células solares de película fina e outras aplicacións de deposición física de vapor (PVD).Envíanos unha consulta sobre os prezos actuais dos obxectivos de pulverización catódica e outros materiais de deposición que non figuran na lista.
