Ti Sputtering Target Revestimento PVD de película fina de alta pureza feito a medida
Titanio
Vídeo
Descrición do obxectivo de pulverización de titanio
O titanio é un elemento químico co símbolo Ti e número atómico 22. É un metal de transición brillante cunha cor prata.O seu punto de fusión é (1660 ± 10) ℃, o punto de ebulición é 3287 ℃.Ten un peso lixeiro, alta dureza, resistencia á corrosión a todo tipo de produtos químicos de cloro.
O titanio resiste a corrosión pola auga do mar e pode disolverse tanto en medios ácidos como en medios alcalinos.
A aliaxe de titanio úsase amplamente na industria aeroespacial, enxeñaría química, petróleo, medicina, construción e outros campos polas súas excelentes propiedades, como a baixa densidade, a condutividade térmica e a excelente resistencia á corrosión, soldabilidade e biocompatibilidade.
O titanio pode absorber gases de hidróxeno, CH4 e Co2, e úsase amplamente en sistemas de baleiro alto e baleiro ultraalto.O obxectivo de pulverización catódica de titanio podería usarse para a fabricación de redes de circuítos LSI, VLSI e ULSI ou materiais metálicos de barreira.
Embalaxe de destino de pulverización catódica de titanio
O noso obxectivo de titanio está claramente marcado e etiquetado externamente para garantir unha identificación eficiente e un control de calidade.Tómese moito coidado para evitar calquera dano que se poida causar durante o almacenamento ou o transporte.
Obter contacto
Os obxectivos de pulverización de titanio de RSM son de ultra alta pureza e uniformes.Están dispoñibles en varias formas, purezas, tamaños e prezos.Somos especializados na produción de materiais de revestimento de película fina de alta pureza con excelente rendemento, así como a maior densidade posible e o menor tamaño de gran medio posible para o seu uso en revestimento de moldes, decoración, pezas de automóbiles, vidro de baixa emisividade, circuíto integrado de semiconductores, película fina. resistencia, visualización gráfica, aeroespacial, gravación magnética, pantalla táctil, batería solar de película fina e outras aplicacións de deposición física de vapor (PVD).Envíanos unha consulta sobre os prezos actuais dos obxectivos de pulverización catódica e outros materiais de deposición que non figuran na lista.
