Obxectivo de pulverización catódica de aliaxe CrNi Revestimento Pvd de película fina de alta pureza feito a medida

Co seu bo rendemento de resistencia á oxidación e á corrosión, o obxectivo de pulverización da aliaxe CrNi úsase amplamente en moitas aplicacións industriais, como vidro Low-E, microelectrónica, gravación magnética, semicondutores e resistencia de película fina.

Chronium Nickel Sputtering Target úsase amplamente na industria do revestimento de vidro, incluíndo o revestimento de vidro para automóbiles, para reducir a reflexión, aumentar a transmitancia da luz e resolver o problema da imaxe pantasma.Ademais, o revestimento PVD podería retardar a taxa de envellecemento e prolongar a vida útil dos produtos.

O vidro de baixa emisividade, ou de baixa emisividade, creouse para minimizar a cantidade de luz infravermella e ultravioleta que atravesa o teu vidro, sen minimizar a cantidade de luz que entra na túa casa.As fiestras de vidro Low-E teñen revestimentos finos que son transparentes e reflicten a calor, mantendo a temperatura consistente ao reflectir as temperaturas interiores no interior.O cronio níquel adoita depositarse na parte exterior para funcionar como capa resistente á corrosión e á oxidación.

A resistencia de película delgada producida pola aliaxe de crono níquel ten moitas vantaxes: alta resistividade, baixo coeficiente de temperatura e alta sensibilidade, e amplamente utilizada en diferentes industrias, incluíndo o medidor de tensión de resistencia.