O revestimento por pulverización catódica con magnetrón é un novo método de revestimento físico de vapor, en comparación co método de revestimento por evaporación anterior, as súas vantaxes en moitos aspectos son bastante notables.Como tecnoloxía madura, a pulverización catódica con magnetrón aplicouse en moitos campos.
Principio de pulverización catódica con magnetrón:
Engádese un campo magnético ortogonal e un campo eléctrico entre o polo obxectivo (cátodo) e o ánodo, e o gas inerte necesario (normalmente gas Ar) énchese na cámara de baleiro alto.O imán permanente forma un campo magnético de 250-350 gaus na superficie do material obxectivo, e o campo electromagnético ortogonal está composto co campo eléctrico de alta tensión.Baixo o efecto do campo eléctrico, a ionización do gas Ar en ións positivos e electróns, ten como obxectivo e ten certa presión negativa, desde o obxectivo do polo polo efecto do campo magnético e o aumento da probabilidade de ionización do gas de traballo, forman un plasma de alta densidade preto do cátodo, ión Ar baixo a acción da forza de Lorentz, acelera para voar á superficie obxectivo, bombardeando a superficie do obxectivo a alta velocidade, Os átomos pulverizados no obxectivo seguen o principio da conversión do momento e voan lonxe da superficie do obxectivo cunha alta cinética. enerxía á película de deposición do substrato.
A sputtering con magnetrón divídese xeralmente en dous tipos: sputtering DC e sputtering RF.O principio do equipo de sputtering DC é sinxelo e a velocidade é rápida ao pulverizar metal.O uso da pulverización de RF é máis extenso, ademais da pulverización de materiais condutores, pero tamén de materiais non condutores de pulverización, pero tamén de preparación de pulverización reactiva de óxidos, nitruros e carburos e outros materiais compostos.Se a frecuencia de RF aumenta, convértese en pulverización de plasma de microondas.Na actualidade, a resonancia de ciclotrón electrónico (ECR) úsase habitualmente a pulverización catódica de plasma de microondas.
Material de destino do revestimento de catódica catódica con magnetrón:
Material de destino de pulverización catódica metálica, material de revestimento de pulverización de aleación de revestimento, material de recubrimento de pulverización de cerámica, materiais de destino de pulverización de cerámica de boruro, material de destino de pulverización de cerámica de carburo, material de destino de pulverización de cerámica con flúor, materiais de destino de pulverización de cerámica de nitruro, obxectivo de cerámica de óxido, material de obxectivo de pulverización de seleniuro, materiais de pulverización catódica de cerámica de siliciuro, material de destino de pulverización catódica de cerámica de sulfuro, diana de pulverización catódica de cerámica de teluro, outro obxectivo de cerámica, diana de cerámica de óxido de silicio dopado con cromo (CR-SiO), diana de fosfuro de indio (InP), diana de arseniuro de chumbo (PbAs), arseniuro de indio obxectivo (InAs).
Hora de publicación: 03-ago-2022