Agora cada vez máis usuarios entenden os tipos de obxectivos eas súas aplicacións, pero a subdivisión do mesmo pode non estar moi clara.Agora imosEnxeñeiro RSM compartir contigoalgunha indución de obxectivos de magnetrón.
Obxectivo de sputtering: obxectivo de revestimento de sputtering de metal, obxectivo de revestimento de sputtering de aliaxe, obxectivo de revestimento de sputtering cerámico, obxectivo de sputtering de cerámica de boruro, obxectivo de sputtering de cerámica de carburo, obxectivo de sputtering de cerámica de fluoruro, obxectivo de sputtering de cerámica de nitruro, obxectivo de óxido de cerámica, obxectivo de sputtering de cerámica de siliciuro de seleniuro, obxectivo, obxectivo de pulverización catódica de cerámica de sulfuro, obxectivo de pulverización catódica de cerámica de teluro, outros obxectivos de cerámica, obxectivo de cerámica de óxido de silicio dopado con cromo (CR SiO), obxectivo de fosfuro de indio (INP), obxectivo de arseniuro de chumbo (pbas), obxectivo de arseniuro de indio (InAs).
A sputtering con magnetrón divídese xeralmente en dous tipos: sputtering DC e sputtering RF.O principio do equipo de sputtering DC é sinxelo e a súa velocidade tamén é rápida ao pulverizar metal.A pulverización de RF é amplamente utilizada.Ademais de pulverizar datos condutores, tamén pode pulverizar datos non condutores.O obxectivo de sputtering tamén se pode usar para sputtering reactiva para preparar datos de compostos como óxidos, nitruros e carburos.Se a frecuencia de RF aumenta, converterase en pulverización de plasma de microondas.Na actualidade, a resonancia de ciclotrón electrónico (ECR) úsase habitualmente da pulverización catódica de plasma de microondas.
Hora de publicación: 26-maio-2022