Tipos de obxectivos de pulverización catódica con magnetrón

Co aumento da demanda do mercado, cada vez máis tipos de obxectivos de pulverización son actualizados constantemente.Algúns son coñecidos e outros descoñecidos para os clientes.Agora, gustaríanos compartir con vostede cales son os tipos de obxectivos de pulverización catódica con magnetrón.

Os obxectivos de pulverización catódica teñen os seguintes tipos: obxectivo de revestimento de pulverización catódica de metal, obxectivo de recubrimento de pulverización de aliaxe, obxectivo de recubrimento de pulverización de cerámica, obxectivo de pulverización de cerámica de boruro, obxectivo de pulverización de cerámica de carburo, obxectivo de pulverización de cerámica de fluoruro, obxectivo de pulverización de cerámica de nitruro, obxectivo de pulverización de cerámica de óxido, obxectivo de pulverización de cerámica de seleniuro. , diana de pulverización de cerámica de siliciuro, diana de pulverización de cerámica de sulfuro, diana de pulverización de cerámica de telururo, outras dianas de cerámica, diana de cerámica de óxido de silicio dopado con cromo (CR SiO), diana de fosfuro de indio (INP), diana de arseniuro de chumbo (pbas), diana de arseniuro de indio (InAs). ).

A sputtering con magnetrón divídese xeralmente en dous tipos: sputtering DC e sputtering RF.O principio do equipo de sputtering DC é sinxelo e a súa velocidade tamén é rápida ao pulverizar metal.A pulverización de RF é amplamente utilizada.Ademais de pulverizar datos condutores, tamén pode pulverizar datos non condutores.Ao mesmo tempo, o obxectivo de sputtering tamén leva a cabo sputtering reactivo para preparar datos compostos como óxidos, nitruros e carburos.Se a frecuencia de RF aumenta, converterase en pulverización de plasma de microondas.Na actualidade, a resonancia de ciclotrón electrónico (ECR) úsase habitualmente da pulverización catódica de plasma de microondas.