Os materiais obxectivos pulverizados teñen altos requisitos durante o seu uso, non só para a pureza e o tamaño de partícula, senón tamén para o tamaño de partícula uniforme.Estes altos requisitos fan que prestemos máis atención ao usar materiais de destino de pulverización catódica.
1. Preparación para pulverización
É moi importante manter a limpeza da cámara de baleiro, especialmente o sistema de pulverización.Os lubricantes, o po e calquera residuo de revestimentos anteriores poden acumular contaminantes como a auga, afectando directamente ao baleiro e aumentando a probabilidade de falla na formación da película.Os curtocircuítos, os arcos de obxectivos, as superficies ásperas que forman película e as impurezas químicas excesivas adoitan ser causados por cámaras de pulverización, armas e obxectivos sucios.
Para manter as características de composición do revestimento, o gas de pulverización (argón ou osíxeno) debe estar limpo e seco.Despois de instalar o substrato na cámara de pulverización, é necesario extraer o aire para acadar o nivel de baleiro necesario para o proceso.
2. Limpeza de obxectivos
O obxectivo da limpeza do obxectivo é eliminar calquera po ou sucidade que poida existir na superficie do obxectivo.
3. Instalación de destino
O máis importante ao que se debe prestar atención durante o proceso de instalación do material obxectivo é garantir unha boa conexión térmica entre o material obxectivo e a parede de arrefriamento da pistola de pulverización.Se a parede de refrixeración ou a placa traseira está severamente deformada, pode causar rachaduras ou flexións durante a instalación do material obxectivo.A transferencia de calor desde o obxectivo traseiro ao material obxectivo verase moi afectada, o que provocará a incapacidade de disipar a calor durante a pulverización catódica, o que finalmente provocará a rachadura ou a desviación do material obxectivo.
4. Inspección de curtocircuítos e selado
Despois da instalación do material obxectivo, é necesario comprobar o curtocircuíto e o selado de todo o cátodo.Recoméndase utilizar un ohmímetro e un megaóhmetro para determinar se o cátodo está en curtocircuíto.Despois de confirmar que o cátodo non está en curtocircuíto, pódese realizar unha detección de fugas inxectando auga no cátodo para determinar se hai algunha fuga.
5. Material obxectivo pre sputtering
Recoméndase usar gas argón puro para a pulverización previa do material obxectivo, que pode limpar a superficie do material obxectivo.Recoméndase aumentar lentamente a potencia de pulverización durante o proceso previo de pulverización do material obxectivo.O poder do material cerámico obxectivo
Hora de publicación: 19-Oct-2023