O revestimento ao baleiro refírese a quentar e evaporar a fonte de evaporación ao baleiro ou a pulverización catódica con bombardeo iónico acelerado, e depositala na superficie do substrato para formar unha película dunha soa capa ou de varias capas.Cal é o principio do revestimento ao baleiro?A continuación, o editor de RSM presentaranos.
1. Revestimento de evaporación ao baleiro
O revestimento de evaporación require que a distancia entre as moléculas de vapor ou átomos desde a fonte de evaporación e o substrato que se vai revestir debe ser inferior ao camiño libre medio das moléculas de gas residual na sala de revestimento, para garantir que as moléculas de vapor do a evaporación pode chegar á superficie do substrato sen colisión.Asegúrese de que a película é pura e firme e que a evaporación non se oxidará.
2. Revestimento de pulverización catódica ao baleiro
No baleiro, cando os ións acelerados chocan co sólido, por un lado, o cristal está danado, por outro, chocan cos átomos que forman o cristal e, finalmente, os átomos ou moléculas da superficie do sólido. pulverizar cara a fóra.O material pulverizado está colocado sobre o substrato para formar unha película fina, que se denomina chapado por pulverización catódica ao baleiro.Existen moitos métodos de pulverización catódica, entre os que a pulverización catódica con diodos é o máis antigo.Segundo os diferentes obxectivos do cátodo, pódese dividir en corrente continua (DC) e alta frecuencia (RF).O número de átomos pulverizados ao impactar a superficie obxectivo cun ión chámase taxa de pulverización.Cunha alta taxa de pulverización, a velocidade de formación da película é rápida.A taxa de pulverización está relacionada coa enerxía e o tipo de ións e o tipo de material obxectivo.En xeral, a taxa de pulverización catódica aumenta co aumento da enerxía iónica humana, e a taxa de pulverización catódica dos metais preciosos é maior.
Hora de publicación: 14-Xul-2022