Os paneis de pantalla de cristal líquido de transistores de película fina son actualmente a tecnoloxía de pantalla plana principal e os obxectivos de pulverización catódica metálica son un dos materiais máis críticos no proceso de fabricación.Na actualidade, a demanda de obxectivos de pulverización catódica metálicas utilizadas nas liñas de produción de paneis LCD principais en China é a máis alta para catro tipos de obxectivos: aliaxe de aluminio, cobre, molibdeno e molibdeno niobio.Permítanme presentar a demanda do mercado de obxectivos de pulverización de metal na industria de pantallas planas.
1, obxectivo de aluminio
Actualmente, os obxectivos de aluminio utilizados na industria doméstica de pantallas de cristal líquido están dominados principalmente por empresas xaponesas.
2, Obxectivo de cobre
En canto á tendencia de desenvolvemento da tecnoloxía de pulverización catódica, a proporción de demanda de obxectivos de cobre foi aumentando gradualmente.Ademais, nos últimos anos, o tamaño do mercado da industria doméstica de pantallas de cristal líquido estivo en constante expansión.Polo tanto, a demanda de obxectivos de cobre na industria de pantallas planas continuará mostrando unha tendencia á alza.
3, obxectivo de molibdeno de ampla gama
En termos de empresas estranxeiras: as empresas estranxeiras como Panshi e Shitaike monopolizan basicamente o mercado obxectivo do molibdeno en todo o país.Producido no país: a finais de 2018, aplicáronse obxectivos de molibdeno de gran variedade de produción nacional na produción de paneis de pantalla de cristal líquido.
4, obxectivo de aliaxe de molibdeno niobio 10
A aliaxe de molibdeno niobio 10, como un importante material substituto para o molibdeno molibdeno aluminio na capa de barreira de difusión dos transistores de película fina, ten unha perspectiva prometedora de demanda do mercado.Non obstante, debido á diferenza significativa no coeficiente de difusión mutua entre os átomos de molibdeno e niobio, formaranse grandes poros na posición das partículas de niobio despois da sinterización a alta temperatura, o que dificulta a mellora da densidade de sinterización.Ademais, o reforzo da solución sólida forte formarase despois da difusión total dos átomos de molibdeno e niobio, o que levará ao deterioro do seu rendemento de rodadura.Non obstante, despois de múltiples experimentos e avances, lanzouse con éxito en 2017 cun contido de osíxeno inferior a 1000 × A Mo Nb de tocho de destino de aliaxe cunha densidade do 99,3%.
Hora de publicación: 18-maio-2023