Como mellorar a taxa de utilización dos materiais obxectivo de molibdeno

Os obxectivos de molibdeno pulverizado foron amplamente utilizados na industria electrónica, células solares, revestimentos de vidro e outros campos debido ás súas vantaxes inherentes.Co rápido desenvolvemento da tecnoloxía moderna en miniaturización, integración, dixitalización e intelixencia, o uso de obxectivos de molibdeno seguirá aumentando e os requisitos de calidade para eles tamén serán cada vez máis elevados.Polo tanto, necesitamos atopar formas de mellorar a taxa de utilización dos obxectivos de molibdeno.Agora, o editor de RSM introducirá varios métodos para mellorar a taxa de utilización dos obxectivos de molibdeno de pulverización catódica para todos.

1. Engade bobina electromagnética no reverso

Co fin de mellorar a taxa de utilización do obxectivo de molibdeno pulverizado, pódese engadir unha bobina electromagnética no reverso do obxectivo de molibdeno de pulverización catódica de Magnetron planar, e o campo magnético na superficie do obxectivo de molibdeno pódese aumentar aumentando a corrente de a bobina electromagnética, para mellorar a taxa de utilización do obxectivo de molibdeno.

2. Seleccione material de destino tubular rotativo

En comparación cos obxectivos planos, a elección dunha estrutura de obxectivos tubular rotativo destaca as súas vantaxes substanciais.Xeralmente, a taxa de utilización dos obxectivos planos é só do 30% ao 50%, mentres que a taxa de utilización dos obxectivos tubulares rotativos pode alcanzar máis do 80%.Ademais, cando se usa o obxectivo de pulverización catódica con magnetrón de tubo oco rotativo, xa que o obxectivo pode xirar ao redor do conxunto de imáns de barra fixa todo o tempo, non haberá redeposición na súa superficie, polo que a vida útil do obxectivo xiratorio é xeralmente máis de 5 veces máis longa. que a do obxectivo do avión.

3. Substitúeo por un novo equipo de pulverización

A clave para mellorar a taxa de utilización dos materiais obxectivo é completar a substitución dos equipos de pulverización catódica.Durante o proceso de sputtering do material obxectivo de sputtering de molibdeno, preto dun sexto dos átomos de sputtering depositarase na parede ou soporte da cámara de baleiro despois de ser golpeado por ións de hidróxeno, aumentando o custo da limpeza do equipo de baleiro e o tempo de inactividade.Polo tanto, a substitución de novos equipos de pulverización tamén pode axudar a mellorar a taxa de utilización dos obxectivos de molibdeno.