O obxectivo ten moitos efectos e o espazo de desenvolvemento do mercado é grande.É moi útil en moitos campos.Case todos os novos equipos de pulverización catódica utilizan potentes imáns para espirar electróns para acelerar a ionización do argón ao redor do obxectivo, o que provoca un aumento da probabilidade de colisión entre o obxectivo e os ións de argón.Agora vexamos o papel do obxectivo de pulverización catódica no revestimento ao baleiro.
Mellorar a taxa de pulverización.Xeralmente, a pulverización catódica DC úsase para o revestimento de metal, mentres que a pulverización catódica de RF AC úsase para materiais magnéticos cerámicos non condutores.O principio fundamental é usar a descarga luminosa para golpear os ións de argón (AR) na superficie do obxectivo no baleiro, e os catións do plasma aceleraranse para precipitarse á superficie do electrodo negativo como material salpicado.Este impacto fará que o material do obxectivo saia voando e se deposite sobre o substrato para formar unha película.
En xeral, hai varias características do revestimento de película mediante o proceso de pulverización: (1) o metal, a aliaxe ou o illante pódense converter en datos de película.
(2) En condicións de ambientación adecuadas, a película coa mesma composición pódese facer a partir de obxectivos múltiples e desordenados.
(3) A mestura ou composto de material obxectivo e moléculas de gas pódese producir engadindo osíxeno ou outros gases activos na atmosfera de descarga.
(4) Pódense controlar a corrente de entrada obxectivo e o tempo de pulverización catódica, e é fácil obter un grosor de película de alta precisión.
(5) En comparación con outros procesos, é propicio para a produción de películas uniformes de gran superficie.
(6) As partículas pulverizadas case non se ven afectadas pola gravidade e as posicións do obxectivo e do substrato pódense organizar libremente.
Hora de publicación: 17-maio-2022