Un obxectivo de pulverización catódica é un material electrónico que forma unha película delgada ao unir unha substancia como unha aliaxe ou un óxido metálico a un substrato electrónico a nivel atómico.Entre eles, o obxectivo de pulverización para a película ennegrecida úsase para formar unha película no panel EL orgánico ou de cristal líquido para ennegrecer o cableado e reducir a reflectancia da luz visible (baixa reflectancia) do cableado TFT.O obxectivo de pulverización catódica ten as seguintes vantaxes e efectos.En comparación cos produtos anteriores, axuda a mellorar o alto grao de finura e liberdade de deseño de varias pantallas e reduce o ruído causado pola luz reflectida do cableado dos produtos relacionados con semicondutores.
Vantaxes e efectos do obxectivo de aluminio:
(1) Despois de que o obxectivo de aluminio se forme no cableado, a luz visible pódese reducir
en comparación con produtos anteriores, pode acadar unha baixa reflexión.
(2) A pulverización catódica CC pode realizarse sen gas reactivo
en comparación con produtos anteriores, é útil realizar a homoxeneidade da película de substratos grandes.
(3) Despois de formar a película, o proceso de gravado pódese realizar xunto co cableado
axustar o material segundo o proceso de gravado existente do cliente, e pode gravar xunto co cableado sen cambiar o proceso existente.Ademais, a empresa tamén prestará apoio segundo as condicións de pulverización dos clientes.
(4) Excelente resistencia á calor, á auga e aos álcalis
Ademais da resistencia á auga e aos álcalis, tamén ten unha alta resistencia á calor, polo que as características da película non cambiarán no proceso de procesamento de cableado TFT.
Hora de publicación: 10-ago-2022