Recentemente, moitos amigos preguntaron sobre as características dos obxectivos de pulverización de molibdeno.Na industria electrónica, para mellorar a eficiencia da pulverización e garantir a calidade das películas depositadas, cales son os requisitos para as características dos obxectivos de pulverización de molibdeno?Agora explicaranos os expertos técnicos de RSM.
1. Pureza
A alta pureza é un requisito característico básico do obxectivo de pulverización catódica de molibdeno.Canto maior sexa a pureza do obxectivo de molibdeno, mellor será o rendemento da película pulverizada.Xeralmente, a pureza do obxectivo de pulverización catódica de molibdeno debe ser polo menos do 99,95% (fracción de masa, a mesma a continuación).Non obstante, coa mellora continua do tamaño do substrato de vidro na industria LCD, é necesario que a lonxitude do cableado se estenda e que o ancho de liña sexa máis fino.Para garantir a uniformidade da película e a calidade do cableado, tamén é necesario aumentar a pureza do obxectivo de pulverización catódica de molibdeno.Polo tanto, segundo o tamaño do substrato de vidro pulverizado e o ambiente de uso, a pureza do obxectivo de pulverización catódica de molibdeno debe ser de 99,99% - 99,999% ou incluso superior.
O obxectivo de pulverización catódica de molibdeno úsase como fonte de cátodo na pulverización catódica.As impurezas en sólidos e osíxeno e vapor de auga nos poros son as principais fontes de contaminación das películas depositadas.Ademais, na industria electrónica, porque os ións de metais alcalinos (Na, K) son fáciles de converter en ións móbiles na capa de illamento, o rendemento do dispositivo orixinal redúcese;Elementos como o uranio (U) e o titanio (TI) liberaranse de raios X α, resultando en descomposición suave dos dispositivos;Os ións de ferro e níquel provocarán fugas na interface e aumento dos elementos de osíxeno.Polo tanto, no proceso de preparación do obxectivo de pulverización catódica de molibdeno, estes elementos de impurezas deben ser controlados rigorosamente para minimizar o seu contido no obxectivo.
2. Granulometría e distribución do tamaño
Xeralmente, o obxectivo de pulverización catódica de molibdeno é a estrutura policristalina e o tamaño do gran pode variar de micras a milímetros.Os resultados experimentais mostran que a taxa de pulverización do obxectivo de gran fino é máis rápida que a do obxectivo de gran groso;Para o obxectivo con pequena diferenza de tamaño de grans, a distribución do espesor da película depositada tamén é máis uniforme.
3. Orientación cristalina
Dado que os átomos obxectivo son fáciles de pulverizar preferentemente ao longo da dirección da disposición máis próxima dos átomos na dirección hexagonal durante a pulverización catódica, para acadar a maior taxa de pulverización, a taxa de pulverización adoita aumentar cambiando a estrutura cristalina do obxectivo.A dirección do cristal do obxectivo tamén ten unha gran influencia na uniformidade do grosor da película pulverizada.Polo tanto, é moi importante obter unha determinada estrutura de obxectivo orientada ao cristal para o proceso de pulverización catódica da película.
4. Densificación
No proceso de revestimento de pulverización, cando se bombardea o obxectivo de pulverización con baixa densidade, o gas existente nos poros internos do obxectivo é liberado de súpeto, o que provoca o salpicadura de partículas ou partículas obxectivo de gran tamaño, ou o material da película é bombardeado. por electróns secundarios despois da formación da película, o que produce salpicaduras de partículas.A aparición destas partículas reducirá a calidade da película.Para reducir os poros do sólido obxectivo e mellorar o rendemento da película, o obxectivo de pulverización catódica xeralmente debe ter unha alta densidade.Para o obxectivo de pulverización catódica de molibdeno, a súa densidade relativa debería ser superior ao 98%.
5. Vinculación de obxectivo e chasis
Xeralmente, o obxectivo de pulverización catódica de molibdeno debe conectarse co chasis de cobre libre de osíxeno (ou aluminio e outros materiais) antes da pulverización catódica, para que a condutividade térmica do obxectivo e do chasis sexa boa durante o proceso de pulverización.Despois da unión, débese realizar unha inspección por ultrasóns para garantir que a área de non unión dos dous sexa inferior ao 2%, para cumprir cos requisitos de pulverización catódica de alta potencia sen caer.
Hora de publicación: 19-Xul-2022