Benvido aos nosos sitios web!

TiSi Sputtering Target Revestimento Pvd de película fina de alta pureza feito a medida

Titanio Silicio

Descrición curta:

Categoría

Obxectivo de pulverización de aliaxe

Fórmula química

TiSi

Composición

Titanio Silicio

Pureza

99,7%,99,9%,99,95%

Forma

Placas, obxectivos de columnas, cátodos de arco, feitos a medida

Proceso de Produción

Función ao baleiro, PM

Tamaño dispoñible

L≤2000mm,W≤200mm


Detalle do produto

Etiquetas de produtos

Vídeo

Descrición do obxectivo de silicio de titanio

Un revestimento de nitruro superduro podería formarse cando o silicio de titanio se combinaba con gas nitróxeno durante o proceso de deposición.O elemento de silicio presente garante un comportamento de alta resistencia á oxidación, mentres que a dureza do titanio.Podería mostrar excelentes propiedades de resistencia ao desgaste mesmo a temperaturas moi elevadas.As ferramentas de corte depositadas polo revestimento de TiSiN son ideais para fresado duro e de alta velocidade, especialmente no corte en seco, e poden tratar con algunhas superligas, como as aliaxes de níquel e titanio.

Os nosos obxectivos típicos de TiSi e as súas propiedades

Ti-15Sien %

Ti-20Sien %

Ti-25Sien %

Ti-30Sien %

Pureza (%)

99.9

99.9

99.9

99.9

Densidade(g/cm).3

4.4

4.35

4.3

4.25

Gchoiva Tamaño(µm)

200/100

100

100

100

Proceso

VAR/HIP

HIP

HIP

HIP

A nosa empresa ten moitos anos de experiencia na fabricación de obxectivos de pulverización catódica para ferramentas de corte de moldes.Ti-15Si at%, fabricado por fusión ao baleiro, ten unha estrutura homoxénea, alta pureza e baixo contido de gas.Ademais, tamén fornecen Ti-15Si at%, Ti-20Si at% e Ti-25Si at% producidos mediante metalurxia de enerxía.Os nosos obxectivos de TiSi teñen excelentes propiedades mecánicas, polo que non son susceptibles de fisuras e fallas estruturais.

Embalaxe de destino de pulverización catódica de silicio de titanio

O noso obxectivo de silicio de titanio está claramente marcado e etiquetado externamente para garantir unha identificación eficiente e un control de calidade.Tómese moito coidado para evitar calquera dano que se poida causar durante o almacenamento ou o transporte.

Obter contacto

Os obxectivos de pulverización catódica de titanio silicio de RSM son de ultra alta pureza e uniformes.Están dispoñibles en varias formas, purezas, tamaños e prezos.Somos especializados na produción de materiais de revestimento de película fina de alta pureza con excelente rendemento, así como a maior densidade posible e o menor tamaño de gran medio posible para o seu uso en revestimento de moldes, decoración, pezas de automóbiles, vidro de baixa emisividade, circuíto integrado de semiconductores, película fina. resistencia, visualización gráfica, aeroespacial, gravación magnética, pantalla táctil, batería solar de película fina e outras aplicacións de deposición física de vapor (PVD).Envíanos unha consulta sobre os prezos actuais dos obxectivos de pulverización catódica e outros materiais de deposición que non figuran na lista.

1
2
3

  • Anterior:
  • Seguinte: