Obxectivo de pulverización catódica de aliaxe PbBi Revestimento Pvd de película fina de alta pureza feito a medida
Chumbo-bismuto
Descrición do obxectivo de pulverización de chumbo-bismuto
A aliaxe de chumbo bismuto é coñecida polo seu baixo punto de fusión.As aliaxes de baixa temperatura de fusión adoitan conter entre un 20% e un 25% de chumbo, bismuto e, ás veces, outros metais, como estaño, cadmio ou indio.Son amplamente utilizados na industria óptica para o bloqueo de lentes, a realización de traballos en enxeñaría de precisión, prototipado, válvulas de seguridade, ferramentas de prensa para tiradas limitadas, dobrado de tubos para perfís complicados, radioterapia para construír bloques de blindaxe e moitas outras aplicacións.
A aliaxe de chumbo-bismuto ten un punto de fusión de 124 °C, é un material axeitado para o refrixerante en reactores nucleares, produción de hidróxeno e obxectivos de espalación para a produción de neutróns sen fisión.
Aliaxe de baixa temperatura de fusión Ingrediente
| No | Coposición（wt.%） | Temperatura da zona de fusión/℃ | Puridade | Tips | |||||
|
| Bi | Pb | Sn | Cd | Starta | Finish | Punto de fluxo de peso propio | (%) | |
| 1 | 50,0 | 26.7 | 13.3 | 10,0 | 70 | 70 | 70 |
| eutéctico |
| 2 | 52.0 | 32.0 | 16.0 | - | 95 | 95 | 95 |
| eutéctico |
| 3 | 54.4 | 43.6 | 1.0 | 1.0 | 104 | 115 | 112 |
| Non eutéctico |
| 4 | 55.5 | 44.5 | - | - | - | - | - | 99.995 | |
Embalaxe obxectivo de pulverización catódica de chumbo con bismuto
O noso obxectivo de pulverización catódica con chumbo bismuto está claramente etiquetado e etiquetado externamente para garantir unha identificación eficiente e un control de calidade.Tómese moito coidado para evitar calquera dano que se poida causar durante o almacenamento ou o transporte.
Obter contacto
Os obxectivos de pulverización catódica con chumbo bismuto de RSM son de ultra alta pureza e uniformes.Están dispoñibles en varias formas, purezas, tamaños e prezos.Somos especializados na produción de materiais de revestimento de película fina de alta pureza con excelente rendemento, así como a maior densidade posible e o menor tamaño de gran medio posible para o seu uso en revestimento de moldes, decoración, pezas de automóbiles, vidro de baixa emisividade, circuíto integrado de semiconductores, película fina. resistencia, visualización gráfica, aeroespacial, gravación magnética, pantalla táctil, batería solar de película fina e outras aplicacións de deposición física de vapor (PVD).Envíanos unha consulta sobre os prezos actuais dos obxectivos de pulverización catódica e outros materiais de deposición que non figuran na lista.