Benvido aos nosos sitios web!

NiV Sputtering Target Revestimento Pvd de película fina de alta pureza feito a medida

Níquel Vanadio

Descrición curta:

Categoría

Obxectivo de pulverización de aliaxe

Fórmula química

NiV

Composición

Níquel Vanadio

Pureza

99,9%,99,95%,99,99%

Forma

Placas, obxectivos de columnas, cátodos de arco, feitos a medida

Proceso de Produción

Función ao baleiro

Tamaño dispoñible

L≤4000mm,W≤350mm


Detalle do produto

Etiquetas de produtos

Descrición do obxectivo de pulverización de níquel vanadio

O ouro adoita aplicarse na deposición da capa de circuíto integrado, pero o composto de baixa fusión AuSi adoita formarse se o ouro se combina con silicio, o que provocaría a soltura entre as diferentes capas.O níquel puro é unha boa opción para a capa adhesiva, mentres que tamén se require unha capa de barreira entre a capa de níquel e ouro para evitar a proliferación.O vanadio podería satisfacer perfectamente este requisito cun alto punto de fusión e a capacidade de soportar unha alta densidade de amperes.Polo tanto, o níquel, o vanadio e o ouro son tres materiais que normalmente se aplican na industria dos circuítos integrados.O obxectivo de pulverización de níquel vanadio faise engadindo vanadio ao níquel fundido.Con baixo ferromagnetismo, é unha boa opción para a pulverización catódica con magnetrón de produtos electrónicos, que poderían producir capa de níquel e capa de vanadio nunha soa vez.

Contido de impurezas Ni-7V %

Pureza

Compoñente principal(% en peso)

Químicos de impurezasppm

Impureza En total(≤ ppm)

 

V

Fe

Al

Si

C

N

O

S

 

99,99

7± 0,5

20

30

20

100

30

100

20

100

99,95

7± 0,5

200

200

200

100

100

200

50

500

99.9

7± 0,5

300

300

300

100

100

200

50

500

Envase de destino de níquel vanadio

O noso obxectivo de pulverización catódica de níquel vanadio está claramente etiquetado e etiquetado externamente para garantir unha identificación eficiente e un control de calidade.Tómese moito coidado para evitar calquera dano que se poida causar durante o almacenamento ou o transporte.

Obter contacto

Os obxectivos de pulverización catódica de níquel vanadio de RSM son de ultra alta pureza e uniformes.Están dispoñibles en varias formas, purezas, tamaños e prezos.Somos especializados na produción de materiais de revestimento de película fina de alta pureza con excelente rendemento, así como a maior densidade posible e o menor tamaño de gran medio posible para o seu uso en revestimento de moldes, decoración, pezas de automóbiles, vidro de baixa emisividade, circuíto integrado de semiconductores, película fina. resistencia, visualización gráfica, aeroespacial, gravación magnética, pantalla táctil, batería solar de película fina e outras aplicacións de deposición física de vapor (PVD).Envíanos unha consulta sobre os prezos actuais dos obxectivos de pulverización catódica e outros materiais de deposición que non figuran na lista.


  • Anterior:
  • Seguinte: