Venda por xunto de NiFe Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Fabricante e provedor personalizados |Rico

Ferro de níquel

NiFe Sputtering Target Revestimento Pvd de película fina de alta pureza Imaxe destacada por encargo

Descrición curta:

Categoría	Obxectivo de pulverización de aliaxe
Fórmula química	NiFe
Composición	Ferro de níquel
Pureza	99,9 %, 99,95 %, 99,99 %
Forma	Placas, obxectivos de columnas, cátodos de arco, feitos a medida
Proceso de Produción	Función ao baleiro, PM
Tamaño dispoñible	L≤2000mm, W≤300mm

Envíanos un correo electrónico

Detalle do produto

Etiquetas de produtos

Vídeo

Descrición do obxectivo de pulverización de ferro de níquel

Níquel Iron Sputtering Target é fabricado por medio de fusión ao baleiro, fundición e PM.Ten unha permeabilidade magnética moi alta a baixa intensidade de campo.
Un obxectivo de ferro de níquel (níquel>30% en peso) demostra a estrutura cúbica centrada na cara a temperatura ambiente.Convencionalmente, os obxectivos de ferro de níquel teñen máis do 36% de composición de níquel e pódense dividir en catro categorías: 35% ~ 40% Ni-Fe, 45% ~ 50% Ni-Fe, 50% ~ 65% Ni-Fe e 70% ～81% Ni-Fe.Cada un deles podería converterse en materiais con bucles de histérese magnética circular, rectangular ou plano.
Os obxectivos de pulverización catódica de ferro de níquel (Ni-Fe) utilízanse nunha ampla gama de aplicacións, por exemplo, medios de almacenamento magnético e dispositivos de blindaxe EMI.

Envase de destino para pulverización de ferro de níquel

O noso obxectivo de pulverización de ferro de níquel está claramente marcado e etiquetado externamente para garantir unha identificación eficiente e un control de calidade.Tómese moito coidado para evitar calquera dano que se poida causar durante o almacenamento ou o transporte.

Obter contacto

Os obxectivos de pulverización de ferro de níquel de RSM son de ultra alta pureza e uniformes.Están dispoñibles en varias formas, purezas, tamaños e prezos.Poderiamos proporcionar unha pureza do 99,99% e as nosas composicións típicas: Ni-Fe10at%, N-iFe16at%, Ni-Fe19at%, Ni-Fe20at%, Ni-Fe36at%, Ni-Fe50at%, Ni-Fe70at%.
Somos especializados na produción de materiais de revestimento de película fina de alta pureza con excelente rendemento, así como a maior densidade posible e o menor tamaño de gran medio posible para o seu uso en revestimento de moldes, decoración, pezas de automóbiles, vidro de baixa emisividade, circuíto integrado de semiconductores, película fina. resistencia, visualización gráfica, aeroespacial, gravación magnética, pantalla táctil, batería solar de película fina e outras aplicacións de deposición física de vapor (PVD).Envíanos unha consulta sobre os prezos actuais dos obxectivos de pulverización catódica e outros materiais de deposición que non figuran na lista.