Todos sabemos que hai moitas especificacións do obxectivo de pulverización catódica,que ten awrango de aplicación ide.Tas variedades de destino comúnmente utilizadas en diferentes industrias tamén son diferentes, hoxe imos vir con PequínRichmat xuntos para aprender sobre a clasificación da industria obxectivo de pulverización.
一,Definición de material obxectivo de pulverización catódica
A pulverización catódica é unha das principais tecnoloxías para a preparación de materiais de película fina.Utiliza os ións xerados pola fonte de ións para formar un feixe de ións con enerxía de alta velocidade mediante a agregación acelerada no baleiro. A superficie sólida bombardeada, os ións e os átomos de superficie sólida teñen intercambio de enerxía cinética, polo que os átomos da superficie sólida deixan o sólido e se depositan sobre na superficie do substrato, o sólido bombardeado é a materia prima para preparar a película depositada pola pulverización catódica, coñecida como obxectivo de pulverización catódica.
二、Clasificación do campo de aplicación dos materiais obxectivo de pulverización catódica
1、Obxectivo de semicondutores
(1)Material de uso habitual:Os obxectivos comúns neste campo inclúen tántalo, cobre, titanio, aluminio, ouro, níquel e outros metais de alto punto de fusión.
(2)Uso:Basicamente úsase nos datos orixinais cruciais do circuíto integrado
(3)Requisitos funcionais:Os requisitos técnicos de pureza, tamaño e integración son altos.
2,Material de destino para exhibición plana
(1)Material de uso habitual:Os obxectivos que se usan habitualmente neste campo inclúen aluminio/cobre/molibdeno/níquel/niobio/silicio/cromo, etc.
(2)Uso:Este tipo de material de destino úsase principalmente en varios tipos de películas de gran área de TV e portátiles。
(3)Requisitos funcionais:Altos requisitos de pureza, gran área, uniformidade, etc.
3、Obxectivos para células solares
(1)Material de uso habitual:Os obxectivos de aluminio/cobre/molibdeno/cromo/ITO/Ta úsanse habitualmente nas células solares.
(2)Uso:Úsase principalmente en "capa de fiestra", capa de barreira, electrodo e película condutora e outras ocasións。
(3)Requisitos funcionais:Alto requisito de habilidades, amplo rango de uso.
4、Material de destino para o almacenamento da información
(1)Material de uso habitual:Almacenamento de información materiais de destino cobalto/níquel/ferroaleación/cromo/telurio/selenio de uso común.
(2)Uso:O material de destino aquí úsase principalmente para a cabeza, a capa media e a capa inferior do cd-rom e do CD.
(3) Requisitos funcionais:Requírese alta densidade de almacenamento e alta velocidade de transmisión.
5、Material obxectivo para a modificación da ferramenta
(1)Material de uso habitual:Modificación da ferramenta de aliaxe de titanio/zirconio/reticular/cromo-aluminio e outros obxectivos.
(2)Uso:Normalmente úsase para mellorar o aspecto.
(3)Requisitos funcionais:Altos requisitos funcionais, longa vida útil.
6、Materiais de destino para dispositivos electrónicos
(1)Material de uso habitual:Os obxectivos de aliaxe de aluminio/silicio úsanse habitualmente en dispositivos electrónicos
(2)Uso:Úsase xeralmente para resistencias de película e capacitores.
(3)Requisitos funcionais:Tamaño pequeno, estabilidade, baixo coeficiente de temperatura de resistencia
Hora de publicación: 21-Abr-2022