Wholesale MoCu Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Fabricante e provedor personalizados |Rico

Cobre molibdeno

MoCu Sputtering Target Revestimento Pvd de película fina de alta pureza Imaxe destacada por encargo

Descrición curta:

Categoría	Obxectivo de pulverización de aliaxe
Fórmula química	MoCu
Composición	Cobre molibdeno
Pureza	99,9%，99,95%，99,99%
Forma	Placas, obxectivos de columnas, cátodos de arco, feitos a medida
Proceso de Produción	PM
Tamaño dispoñible	L≤200mm,W≤200mm

Envíanos un correo electrónico

Detalle do produto

Etiquetas de produtos

O obxectivo de pulverización catódica de cobre molibdeno faise mediante sinterización por infiltración: os po de molibdeno sinterizados e formados nos produtos semielaborados, combinados cunha estratexia posterior de solución acuosa asistida por microondas.A aliaxe de cobre molibdeno ten excelentes propiedades físicas e mecánicas: condutividade eléctrica e térmica satisfactoria, coeficiente de expansión térmica baixo e axustable, resistencia ao desgaste e resistencia á alta temperatura.

Composicións (%)	Cu	Mo	Impureza (%)
MoCu10	10 ± 2	Balance	≤0,1
MoCu15	15 ± 3	Balance	≤0,1
MoCu20	20 ± 3	Balance	≤0,1
MoCu25	25 ± 3	Balance	≤0,1
MoCu40	40 ± 5	Balance	≤0,1

Rich Special Materials está especializada na fabricación de obxectivos de pulverización catódica e podería producir materiais de pulverización de cobre de molibdeno segundo as especificacións dos clientes.Para máis información, póñase en contacto connosco.

Anterior: MoNi Sputtering Target Revestimento Pvd de película fina de alta pureza feito a medida

Seguinte: NbTi Sputtering Target Revestimento Pvd de película fina de alta pureza feito a medida