FeNi Sputtering Target Revestimento Pvd de película fina de alta pureza feito a medida

Iron Nickel Sputtering Target está fabricado mediante fusión ao baleiro, fundición e PM.Ten unha permeabilidade magnética moi alta a baixa intensidade de campo.

Un obxectivo de níquel de ferro (níquel> 30 % en peso) demostra a estrutura cúbica centrada na cara a temperatura ambiente.Convencionalmente, os obxectivos de ferro de níquel teñen máis do 36% de composición de níquel e pódense dividir en catro categorías: 35% ~ 40% Ni-Fe, 45% ~ 50% Ni-Fe, 50% ~ 65% Ni-Fe e 70% ～81% Ni-Fe.Cada un podería facerse en materiais con bucles de histérese magnética circular, rectangular ou plano.

Os obxectivos de pulverización catódica de ferro de níquel (Ni-Fe) utilízanse nunha ampla gama de aplicacións, por exemplo, medios de almacenamento magnético e dispositivos de blindaxe EMI.

Rich Special Materials está especializada na fabricación de obxectivos de pulverización e pode producir materiais de níquel de ferro segundo as especificacións dos clientes.Poderiamos proporcionar unha pureza do 99,99% e as nosas composicións típicas: Ni-Fe10at%, N-iFe16at%, Ni-Fe19at%, Ni-Fe20at%, Ni-Fe36at%, Ni-Fe50at%, Ni-Fe70at%.Para máis información, póñase en contacto connosco.